苏大维格的光刻机什么水平 苏大维格光电公司招聘

苏大维格的光刻机水平如何？苏大维格光电公司招聘

#2023年9月21日

苏大维格想要在EUV光刻机的领域取得突破，面临的挑战非常巨大。

#2023年5月11日

面对美日韩对***半导体高端制程领域的封锁，我国光刻机研发进度缓慢，但上海微电子已实现ArF、KrF和i-Line光刻机生产。

#苏大维格(300331)简介

苏州苏大维格光电科技股份有限公司是专业从事激光防伪印刷材料的高新技术企业，成立于2001年。

#2021年8月26日

上海微电子装备的光刻机SSA600/20工艺性能最好为90nm，相当于2004年的水平。

#凭借设备、工艺的多年储备研发

公司持续拓展业务，从在PET膜材上刻画防伪材料，到刻制导光板亮点、反光材料模具等，逐步深化光刻设备的应用。

#1月28日岗位要求和职责

本科及以上学历，激光直写光刻机销售经验优先。责任包括销售高校、科研院所的半导体设备。

#2023年5月11日个股观点

光刻机在芯片制作中的重要性不可忽视，但目前核心技术多由ASML一家公司垄断。

#2023年9月14日

苏大维格已向国内龙头芯片企业销售光刻机，并向***、韩国、***等***出口，提供定位光栅尺部件。

截至本报告公告日，公司透明导电膜、超薄高亮导光、前光材料等高附加。