苏大维格研发光刻机吗 苏大维格光刻机和asml光刻机区别

苏大维格研发光刻机吗 苏大维格光刻机和asml光刻机区别

2022年3月21日

苏大维格是首批获得认证的***高新技术企业之一，虽然为上海微电子提供部件，但也在研发光刻机。其研发的激光直写光刻机已实现商用。

2021年9月19日

光刻机有两种类型：投影光刻机和直写光刻机。投影光刻机将光掩模图形缩微并光刻到硅片上，最细线宽达5nm，如ASML极紫外EUV投影光刻机。

被照射到的部分光刻胶会发生变质，而构筑栅区的地方不会被照射到。用腐蚀性液体清洗硅片，变质的光刻胶被除去，露出下面的硅片。

2023年9月19日

苏大维格所研发的激光直写光刻机与ASML的EUV掩摸光刻机有着明显区别。苏大维格产品更应该被描述为“光刻设备”，而非“光刻机”。

2021年8月26日

光刻机是***半导体设备制造的短板之一。虽然High End光刻机市场被ASML垄断，但在Medium and low end市场上仍有发展空间。

2023年11月17日

苏大维格的“光刻机”属于直写光刻机，已实现销售，并向国内厂商提供IC芯片投影式光刻机的核心部件。

2023年2月24日

光刻机是半导体设备中技术难度和单价最高的设备之一。ASML公司的光刻机供应链包括全球各地的供应商。